一種用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室的制作方法

一種用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室的制作方法

【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室，包括一大型潔凈空間及回風(fēng)通道；大型潔凈空間從上到下包括架構(gòu)空間、潔凈空間和循環(huán)空間，所述循環(huán)空間內(nèi)設(shè)有生產(chǎn)輔助設(shè)備；所述循環(huán)空間內(nèi)設(shè)置生產(chǎn)輔助設(shè)備的區(qū)域的四周均設(shè)有隔板，使其構(gòu)成獨(dú)立的密閉空間；在所述潔凈空間內(nèi)相對(duì)于所述密閉空間的位置設(shè)有至少1個(gè)回風(fēng)柱，所述回風(fēng)柱的頂端與架構(gòu)空間連通，其底端與高架地板連通；所述回風(fēng)柱內(nèi)設(shè)有風(fēng)機(jī)。本實(shí)用新型解決了生產(chǎn)輔助設(shè)備易產(chǎn)生泄漏的問題；與此同時(shí)，在潔凈空間內(nèi)相對(duì)于所述密閉空間的位置設(shè)置多個(gè)回風(fēng)柱，通過回風(fēng)柱實(shí)現(xiàn)氣流循環(huán)，同時(shí)還充分利用了其內(nèi)的潔凈空氣，而且降低了消耗。

【專利說明】一種用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室

【技術(shù)領(lǐng)域】

[0001]本實(shí)用新型涉及一種用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室，是指用于半導(dǎo)體的生產(chǎn)場合。

【背景技術(shù)】

[0002]半導(dǎo)體廠房是專門用來制備半導(dǎo)體器件的地方，目前已經(jīng)得到了廣泛應(yīng)用。由于半導(dǎo)體器件的特殊性，要求半導(dǎo)體廠房必須設(shè)計(jì)成潔凈室，以滿足恒溫恒濕以及潔凈度等要求。對(duì)于一些高端半導(dǎo)體的生產(chǎn)廠房，如32/28nm，甚至以下的高端制程，不但對(duì)潔凈度的要求較高，且對(duì)漂浮于空氣中的懸浮化學(xué)分子氣體污染更為嚴(yán)格。

[0003]現(xiàn)有的用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室參見附圖1所示，主要包括新風(fēng)輸送系統(tǒng)、排氣系統(tǒng)和一大型潔凈空間，所述大型潔凈空間從上到下包括架構(gòu)空間4、潔凈空間5和循環(huán)空間6，架構(gòu)空間和潔凈空間之間設(shè)有天花板7，潔凈空間和循環(huán)空間之間設(shè)有高架地板2和混凝土板3。

[0004]所述大型潔凈空間內(nèi)設(shè)有各種加工設(shè)備，在循環(huán)空間(又稱技術(shù)夾層)內(nèi)會(huì)設(shè)有各種生產(chǎn)輔助設(shè)備1，如真空泵、冷凍機(jī)等，實(shí)際應(yīng)用發(fā)現(xiàn):真空泵會(huì)因?yàn)檎饎?dòng)而松脫，導(dǎo)致氣體泄漏；冷凍機(jī)的配管在清洗過程中因未鎖緊或接頭松動(dòng)而泄漏腐蝕性氣體。在以往的案例中，尤其是干刻蝕區(qū)會(huì)經(jīng)常發(fā)生上述事故，導(dǎo)致腐蝕性氣體泄漏，這不僅會(huì)造成導(dǎo)線腐蝕，而且這些腐蝕性氣體還會(huì)通過回風(fēng)通道進(jìn)入整個(gè)潔凈空間，造成散布擴(kuò)散，從而影響了產(chǎn)品的質(zhì)量。這種因?yàn)槲挥谘h(huán)空間內(nèi)的生產(chǎn)輔助設(shè)備泄漏而造成整個(gè)潔凈空間的污染事件時(shí)有發(fā)生。

[0005]針對(duì)上述問題，現(xiàn)有技術(shù)采用的方法是在潔凈室內(nèi)設(shè)置化學(xué)過濾器，但由于潔凈室內(nèi)的空間較大，很難做到完全清除，且該法的成本極高；這對(duì)于一些高端半導(dǎo)體的生產(chǎn)廠房(如32/28nm高端制程)是非常致命的，原因是高端半導(dǎo)體產(chǎn)品對(duì)腐蝕性氣體的含量要求更高。因此，開發(fā)一種能避免腐蝕性氣體影響的潔凈室，對(duì)于一些高端半導(dǎo)體的生產(chǎn)廠房具有積極的現(xiàn)實(shí)意義。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本實(shí)用新型的目的是提供一種用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室。

[0007]為達(dá)到上述發(fā)明目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:一種用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室，包括新風(fēng)輸送系統(tǒng)、排氣系統(tǒng)和一大型潔凈空間及回風(fēng)通道；

[0008]所述大型潔凈空間從上到下包括架構(gòu)空間、潔凈空間和循環(huán)空間，架構(gòu)空間和潔凈空間之間設(shè)有天花板，潔凈空間和循環(huán)空間之間設(shè)有高架地板和混凝土板；所述循環(huán)空間內(nèi)設(shè)有生產(chǎn)輔助設(shè)備；

[0009]所述循環(huán)空間內(nèi)設(shè)置生產(chǎn)輔助設(shè)備的區(qū)域的四周均設(shè)有隔板，使其構(gòu)成獨(dú)立的密閉空間；循環(huán)空間內(nèi)還設(shè)有連通管，連通管的一端與所述密閉空間連通，另一端與潔凈室的外界連通；

[0010]在所述潔凈空間內(nèi)相對(duì)于所述密閉空間的位置設(shè)有至少I個(gè)回風(fēng)柱，所述回風(fēng)柱的頂端與架構(gòu)空間連通，其底端與高架地板連通；

[0011]所述回風(fēng)柱內(nèi)設(shè)有風(fēng)機(jī)。

[0012]上文中，所述循環(huán)空間內(nèi)還設(shè)有連通管，其與所述密閉空間連通，從而當(dāng)生產(chǎn)輔助設(shè)備產(chǎn)生泄漏時(shí)，可以通過連通管將腐蝕性氣體排出。在連通管的出口處，還可以設(shè)置洗滌塔。連通管上還可以設(shè)有閥門。

[0013]本實(shí)用新型通過設(shè)置隔板將循環(huán)空間內(nèi)設(shè)置生產(chǎn)輔助設(shè)備的區(qū)域隔離出來，從而解決了生產(chǎn)輔助設(shè)備易產(chǎn)生泄漏的問題。然而，與此同時(shí)，由于循環(huán)空間的封閉設(shè)置，導(dǎo)致其上方的潔凈空間的氣流循環(huán)無法完成，因此，在潔凈空間內(nèi)相對(duì)于所述密閉空間的位置設(shè)置多個(gè)回風(fēng)柱，通過回風(fēng)柱實(shí)現(xiàn)氣流循環(huán)。至于回風(fēng)柱的數(shù)量，應(yīng)當(dāng)根據(jù)實(shí)際情況設(shè)定。

[0014]所述回風(fēng)柱內(nèi)設(shè)有風(fēng)機(jī)。風(fēng)機(jī)的作用是使其內(nèi)的氣體向上流動(dòng)，形成氣流循環(huán)。

[0015]由于回風(fēng)柱的設(shè)置，其對(duì)應(yīng)的潔凈空間可以順利的完成氣流循環(huán)，因此其兩側(cè)的回風(fēng)通道就成了擺設(shè)，因此，可以將回風(fēng)通道取消，改造成正常的潔凈空間使用，增加可用空間。

[0016]上述技術(shù)方案中，所述架構(gòu)空間和高架地板內(nèi)相對(duì)于所述密閉空間的位置均設(shè)有隔板，使所述密閉空間上方的架構(gòu)空間、潔凈空間，以及高架地板所在的空間構(gòu)成獨(dú)立的潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)。

[0017]優(yōu)選的，所述架構(gòu)空間、高架地板和潔凈空間內(nèi)相對(duì)于所述密閉空間的位置均設(shè)有隔板，使所述密閉空間上方的架構(gòu)空間、潔凈空間，以及高架地板所在的空間構(gòu)成獨(dú)立的潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)。

[0018]上述技術(shù)方案中，所述密閉空間的頂端設(shè)有密封板，所述密封板設(shè)于高架地板和混凝土板之間。

[0019]上述技術(shù)方案中，所述回風(fēng)柱內(nèi)設(shè)有干盤管。以進(jìn)行溫度調(diào)節(jié)。在某些生產(chǎn)區(qū)域，設(shè)備發(fā)熱量低但潔凈風(fēng)需求量多，造成實(shí)際需要通過干盤管的風(fēng)量比真正通過的風(fēng)量多，形成能源浪費(fèi)。此時(shí)還可以在天花板上增設(shè)回風(fēng)口，搭配回風(fēng)柱內(nèi)設(shè)置的干盤管，而獲得上述問題的較好解決。

[0020]由于上述技術(shù)方案運(yùn)用，本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點(diǎn):

[0021]1、本實(shí)用新型設(shè)計(jì)得到了一種新的用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室，通過設(shè)置隔板將循環(huán)空間內(nèi)設(shè)置生產(chǎn)輔助設(shè)備的區(qū)域隔離出來，從而解決了生產(chǎn)輔助設(shè)備易產(chǎn)生泄漏的問題；與此同時(shí)，由于循環(huán)空間的封閉設(shè)置，導(dǎo)致其上方的潔凈空間的氣流循環(huán)無法完成，因此在潔凈空間內(nèi)相對(duì)于所述密閉空間的位置設(shè)置多個(gè)回風(fēng)柱，通過回風(fēng)柱實(shí)現(xiàn)氣流循環(huán)，同時(shí)還充分利用了其內(nèi)的潔凈空氣，而且降低了消耗；

[0022]2、本實(shí)用新型在循環(huán)空間內(nèi)還設(shè)置了連通管，其與所述密閉空間連通，從而當(dāng)生產(chǎn)輔助設(shè)備產(chǎn)生泄漏時(shí)，可以通過連通管將腐蝕性氣體排出；在連通管的出口處，還可以設(shè)置洗滌塔；從而較好地解決了生產(chǎn)輔助設(shè)備的泄漏問題，且避免了腐蝕性氣體影響的潔凈室;

[0023]3、本實(shí)用新型在架構(gòu)空間和高架地板內(nèi)相對(duì)于密閉空間的位置均設(shè)有隔板，使所述密閉空間上方的架構(gòu)空間、潔凈空間，以及高架地板所在的空間構(gòu)成獨(dú)立的潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)，再配合其內(nèi)的回風(fēng)柱，構(gòu)成了潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)，從而充分利用了其內(nèi)的空間；且回風(fēng)柱可以在潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)中形成微循環(huán)，不僅充分利用了其內(nèi)的潔凈空氣，而且降低了消耗；

[0024]4、本實(shí)用新型在回風(fēng)柱內(nèi)設(shè)置干盤管，可以進(jìn)行溫度調(diào)節(jié)；解決了某些生產(chǎn)區(qū)域設(shè)備發(fā)熱量低但潔凈風(fēng)需求量多，造成實(shí)際需要通過干盤管的風(fēng)量比真正通過的風(fēng)量多而形成的能源浪費(fèi)問題；

[0025]5、本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)簡單，易于制備，適于推廣應(yīng)用。

【專利附圖】

【附圖說明】

[0026]圖1是【背景技術(shù)】中的潔凈室的局部剖視圖；

[0027]圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例一的局部剖視圖；

[0028]圖3是圖2的氣流示意圖；

[0029]圖4是本實(shí)用新型實(shí)施例二的局部剖視圖；

[0030]圖5是圖4的氣流示意圖。

[0031]其中:1、生產(chǎn)輔助設(shè)備；2、高架地板；3、混凝土板；4、架構(gòu)空間；5、潔凈空間；6、循環(huán)空間；7、天花板；8、隔板；9、回風(fēng)柱；10、風(fēng)機(jī)；11、第二隔板；12、密封板；13、干盤管。

【具體實(shí)施方式】

[0032]下面結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述:

[0033]實(shí)施例一

[0034]參見圖2?3所示，一種用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室，包括新風(fēng)輸送系統(tǒng)、排氣系統(tǒng)和一大型潔凈空間及回風(fēng)通道；

[0035]所述大型潔凈空間從上到下包括架構(gòu)空間4、潔凈空間5和循環(huán)空間6，架構(gòu)空間和潔凈空間之間設(shè)有天花板7，潔凈空間和循環(huán)空間之間設(shè)有高架地板和混凝土板；所述循環(huán)空間內(nèi)設(shè)有生產(chǎn)輔助設(shè)備；

[0036]所述循環(huán)空間內(nèi)設(shè)置生產(chǎn)輔助設(shè)備的區(qū)域的四周均設(shè)有隔板8，使其構(gòu)成獨(dú)立的密閉空間；循環(huán)空間內(nèi)還設(shè)有連通管，連通管的一端與所述密閉空間連通，另一端與潔凈室的外界連通；

[0037]在所述潔凈空間內(nèi)相對(duì)于所述密閉空間的位置設(shè)有至少I個(gè)回風(fēng)柱9，所述回風(fēng)柱的頂端與架構(gòu)空間連通，其底端與高架地板連通；

[0038]所述回風(fēng)柱內(nèi)設(shè)有風(fēng)機(jī)10。所述回風(fēng)柱內(nèi)設(shè)有干盤管13。

[0039]所述架構(gòu)空間和高架地板內(nèi)相對(duì)于所述密閉空間的位置均設(shè)有第二隔板11，使所述密閉空間上方的架構(gòu)空間、潔凈空間，以及高架地板所在的空間構(gòu)成獨(dú)立的潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)。

[0040]所述密閉空間的頂端設(shè)有密封板12，所述密封板設(shè)于高架地板和混凝土板之間。

[0041]上文中，所述循環(huán)空間內(nèi)還設(shè)有連通管，其與所述密閉空間連通，從而當(dāng)生產(chǎn)輔助設(shè)備產(chǎn)生泄漏時(shí)，可以通過連通管將腐蝕性氣體排出。在連通管的出口處，還可以設(shè)置洗滌塔。連通管上還可以設(shè)有閥門。

[0042]本實(shí)用新型通過設(shè)置隔板將循環(huán)空間內(nèi)設(shè)置生產(chǎn)輔助設(shè)備的區(qū)域隔離出來，從而解決了生產(chǎn)輔助設(shè)備易產(chǎn)生泄漏的問題。然而，與此同時(shí)，由于循環(huán)空間的封閉設(shè)置，導(dǎo)致其上方的潔凈空間的氣流循環(huán)無法完成，因此，在潔凈空間內(nèi)相對(duì)于所述密閉空間的位置設(shè)置多個(gè)回風(fēng)柱，通過回風(fēng)柱實(shí)現(xiàn)氣流循環(huán)。至于回風(fēng)柱的數(shù)量，應(yīng)當(dāng)根據(jù)實(shí)際情況設(shè)定。

[0043]所述回風(fēng)柱內(nèi)設(shè)有風(fēng)機(jī)。風(fēng)機(jī)的作用是使其內(nèi)的氣體向上流動(dòng)，形成氣流循環(huán)。

[0044]由于回風(fēng)柱的設(shè)置，其對(duì)應(yīng)的潔凈空間可以順利的完成氣流循環(huán)，因此其兩側(cè)的回風(fēng)通道就成了擺設(shè)，因此，可以將回風(fēng)通道取消，改造成正常的潔凈空間。

[0045]實(shí)施例二

[0046]參見圖4飛所示，一種用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室，包括新風(fēng)輸送系統(tǒng)、排氣系統(tǒng)和一大型潔凈空間及回風(fēng)通道；

[0047]所述大型潔凈空間從上到下包括架構(gòu)空間、潔凈空間和循環(huán)空間，架構(gòu)空間和潔凈空間之間設(shè)有天花板，潔凈空間和循環(huán)空間之間設(shè)有高架地板和混凝土板；所述循環(huán)空間內(nèi)設(shè)有生產(chǎn)輔助設(shè)備；

[0048]所述循環(huán)空間內(nèi)設(shè)置生產(chǎn)輔助設(shè)備的區(qū)域的四周均設(shè)有隔板8，使其構(gòu)成獨(dú)立的密閉空間；循環(huán)空間內(nèi)還設(shè)有連通管，連通管的一端與所述密閉空間連通，另一端與潔凈室的外界連通；

[0049]在所述潔凈空間內(nèi)相對(duì)于所述密閉空間的位置設(shè)有至少I個(gè)回風(fēng)柱，所述回風(fēng)柱的頂端與架構(gòu)空間連通，其底端與高架地板連通；

[0050]所述回風(fēng)柱內(nèi)設(shè)有風(fēng)機(jī)。所述回風(fēng)柱內(nèi)設(shè)有干盤管。

[0051]所述架構(gòu)空間、高架地板和潔凈空間內(nèi)相對(duì)于所述密閉空間的位置均設(shè)有第二隔板11，使所述密閉空間上方的架構(gòu)空間、潔凈空間，以及高架地板所在的空間構(gòu)成獨(dú)立的潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)。

【權(quán)利要求】

1.一種用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室，包括新風(fēng)輸送系統(tǒng)、排氣系統(tǒng)和一大型潔凈空間及回風(fēng)通道； 所述大型潔凈空間從上到下包括架構(gòu)空間(4)、潔凈空間(5)和循環(huán)空間(6)，架構(gòu)空間和潔凈空間之間設(shè)有天花板(7)，潔凈空間和循環(huán)空間之間設(shè)有高架地板(2)和混凝土板(3);所述循環(huán)空間內(nèi)設(shè)有生產(chǎn)輔助設(shè)備；其特征在于: 所述循環(huán)空間內(nèi)設(shè)置生產(chǎn)輔助設(shè)備的區(qū)域的四周均設(shè)有隔板(8)，使其構(gòu)成獨(dú)立的密閉空間；循環(huán)空間內(nèi)還設(shè)有連通管，連通管的一端與所述密閉空間連通，另一端與潔凈室的外界連通； 在所述潔凈空間內(nèi)相對(duì)于所述密閉空間的位置設(shè)有至少I個(gè)回風(fēng)柱(9)，所述回風(fēng)柱的頂端與架構(gòu)空間連通，其底端與高架地板連通； 所述回風(fēng)柱內(nèi)設(shè)有風(fēng)機(jī)(10)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的潔凈室，其特征在于:所述架構(gòu)空間和高架地板內(nèi)相對(duì)于所述密閉空間的位置均設(shè)有第二隔板(11)，使所述密閉空間上方的架構(gòu)空間、潔凈空間，以及高架地板所在的空間構(gòu)成獨(dú)立的潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的潔凈室，其特征在于:所述架構(gòu)空間、高架地板和潔凈空間內(nèi)相對(duì)于所述密閉空間的位置均設(shè)有第二隔板，使所述密閉空間上方的架構(gòu)空間、潔凈空間，以及高架地板所在的空間構(gòu)成獨(dú)立的潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的潔凈室，其特征在于:所述密閉空間的頂端設(shè)有密封板(12)，所述密封板設(shè)于高架地板和混凝土板之間。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的潔凈室，其特征在于:所述回風(fēng)柱內(nèi)設(shè)有干盤管(13)。

【文檔編號(hào)】F24F7/10GK203783198SQ201420120184

【公開日】2014年8月20日 申請日期:2014年3月18日 優(yōu)先權(quán)日:2014年3月18日

【發(fā)明者】楊政諭 申請人:亞翔系統(tǒng)集成科技（蘇州）股份有限公司